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水駐極熔噴布專用設(shè)備
功能特點
· 設(shè)備簡介：EDI純水設(shè)備系統(tǒng)是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)有機結(jié)合形成的一種新型除鹽技術(shù)?？梢杂行У娜コ腥侩x子，出水電阻率可穩(wěn)定在15MΩ.CM以上，連續(xù)運行、無化學(xué)污染、水的利用率高，在高純水設(shè)備工藝上有著廣闊的應(yīng)用前景。
· 產(chǎn)水電阻率：
單級反滲透+EDI≥10（MΩ.cm）
雙級反滲透+EDI≥16（MΩ.cm）
· 應(yīng)用領(lǐng)域：血液透析、集成電路板、顯像半導(dǎo)體清洗、蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干式電池生產(chǎn)、實驗室用水、電鍍涂裝清洗、精細化工、化學(xué)制劑生產(chǎn)、單晶硅、多晶硅精細；生物制劑生產(chǎn)。
功能特點
· 設(shè)備簡介：EDI純水設(shè)備系統(tǒng)是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)有機結(jié)合形成的一種新型除鹽技術(shù)。可以有效的去除水中全部離子，出水電阻率可穩(wěn)定在15MΩ.CM以上，連續(xù)運行、無化學(xué)污染、水的利用率高，在高純水設(shè)備工藝上有著廣闊的應(yīng)用前景。
· 產(chǎn)水電阻率：
單級反滲透+EDI≥10（MΩ.cm）
雙級反滲透+EDI≥16（MΩ.cm）
· 應(yīng)用領(lǐng)域：血液透析、集成電路板、顯像半導(dǎo)體清洗、蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干式電池生產(chǎn)、實驗室用水、電鍍涂裝清洗、精細化工、化學(xué)制劑生產(chǎn)、單晶硅、多晶硅精細；生物制劑生產(chǎn)。
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